EM-Tec M-1 und M-10 Rasterkalibrierstandards
mit 1 µm und 10 µm Teilung, NIST rückverfolgbar


Einleitung

Die EM-Tec M1 und M-10 Kalibrierstandards haben beide in ein ultraflaches Si-Substrat eingeätzte, quadratische Rastermaschen. Die Rastermaschen sind hilfreiche, praktische Werkzeuge bei der Kalibrierung der Vergrößerung und zur Beurteilung der Bildverzerrung. Sie sind gedacht für den Einsatz in REM, FE-REM, FIB, Auger, SIMS und Auflichtmikroskopen. Proben können auch direkt auf den Standards befestigt werden. Dann dient das Rastermuster des Standards im Hintergrund zur direkten Kalibrierung des Bildes. Dies ist besonders nützlich bei kleinen Proben und Pulvern. Die EM-Tec M1 und M-10 Kalibrierstandards werden mit einem NIST rückverfolgbaren Wafer-Level-Zertifikat geliefert.

Es gibt zwei verschiedene Rasterkalibrierstandards:


EM-Tec M-1 mit einer 1 µm Teilung für 100x bis 10.000x Vergrößerung
                 Details EM-Tec M-1 mit 1 µm Grid-Raster Teilung für 100x bis 10.000x Vergrößerung.
Details EM-Tec M-1 mit 1 µm Grid-Raster Teilung
für 100x bis 10.000x Vergrößerung.
Bestellinformationen

Der EM-Tec M-1 mit einer 1 µm Teilung mit stärkeren Linien alle 10 und 100 µm. Er ist hilfreich bei der Kalibrierung im Vergrößerungsbereich von 100x bis 10.000x und zur Beurteilung der Bildverzerrung. Kleine Proben können für sofortige Kalibrierung oder Kalibriermaßstab im Bild direkt auf das Rastermuster aufgebracht werden. Die Linien sind direkt in ein ultraflaches Siliciumsubstrat geätzt, das gegenüber SiO2 geätzten Substratn ein hervorragendes Signal erzeugt.


Spezifikationen des EM-Tec M-1 Kalibrierstandards mit einer 1 µm Teilung
Substrat

525 µm dicker, ultraflacher Wafer mit <100> Orientierung

Leitfähigkeit

Sehr gut, 5-10 Ohm Widerstand

Rastergröße

3 x 3 mm

Teilung/Präzision

1µm ± 0,025µm, 10µm ± 0,025µm und 100µm ± 0,25µm

Linienart/-tiefe

Geätzt in Si, 300 nm ± 30 nm tiefe Linien

Linienbreite

 

200 nm ± 10 nm bei 1 µm Teillinien
300 nm ± 15 nm bei 10 µm Teillinien
400 nm ± 20 nm bei 100 µm Teillinien

Rechtwinkligkeit

Besser 0.01°

Markierungen  

Ecken-Bezugsmarkierungen zur Findung der Gridposition

Würfelgröße

4 x 4 mm
Anwendungsbereich

REM, FE-REM, FIB, Auger, SIMS und Auflichtmikroskope

Kennzeichnung

Produkt-ID mit eingeätzter Seriennummer

Befestigung

Nicht montiert oder auf verschiedenen Trägern

Lieferung 

Geliefert in Gel-Pak Box

Zertifizierung

Wafer-Level-Zertifikat auf Rückverfolgbarkeit, NIST



EM-Tec M-10 mit einer 10 µm Teilung für 100x bis 1000x Vergrößerung



                 EM-Tec M-10 with 10µm pitch grid pattern for 100x to 1000x magnification range
Details EM-Tec M-10 with 10µm pitch grid pattern
for 100x to 1000x magnification Sortiment
Bestellinformationen

Der EM-Tec M-10 mit einer 10 µm Teilung mit stärkeren Linien alle 100 µm. Er ist hilfreich bei der Kalibrierung im Vergrößerungsbereich von 100x bis 1000x und zur Beurteilung der Bildverzerrung. Kleine Proben können für sofortige Kalibrierung oder Kalibriermaßstab im Bild direkt auf das Rastermuster aufgebracht werden. Die Linien sind direkt in ein ultraflaches Siliciumsubstrat geätzt, das gegenüber SiO2 geätzten Substratn ein hervorragendes Signal erzeugt.

Spezifikationen des EM-Tec M-10 Kalibrierstandards mit einer 10 µm Teilung
Substrat

525 µm dicker, ultraflacher Wafer mit <100> Orientierung

Leitfähigkeit

Sehr gut, 5-10 Ohm Widerstand

Rastergröße 

3 x 3 mm
Abstand/precision 10µm ± 0,025µm und 100µm ± 0,25µm

Teilung/Präzision

Geätzt in Si, 300 nm ± 30 nm tiefe Linien

Linienbreite

300nm ± 15nm bei 10 µm Teillinien
400nm ± 20nm bei 100 µm Teillinien

Rechtwinkligkeit

Bettes 0.01°

Markierungen

Ecken-Bezugsmarkierungen zur Findung der Gridposition

Würfelgröße

4 x 4 mm
Anwendungsbereich

REM, FE-REM, FIB, Auger, SIMS und Auflichtmikroskope

Kennzeichnung

Produkt-ID mit eingeätzter Seriennummer

Befestigung

Nicht montiert oder auf verschiedenen Trägern

Lieferung

Geliefert in Gel-Pak Box

Zertifizierung

Wafer-Level-Zertifikat auf Rückverfolgbarkeit, NIST



Bestellinformationen

*Preisen ohne Umsatzsteuer, aber innerhalb der EU, müssen wir Ihr Ust.-Nummer überprufen.
EM-Tec M-1 Kalibrierstandard, mit 1 µm Raster
EM-Tec M-1 Kalibrierstandard, mit 1 µm Raster
Der EM-Tec M-1 mit einer 1 µm Teilung ist hilfreich bei der Kalibrierung im Vergrößerungsbereich von 100x bis 10.000x und zur Beurteilung der Bildverzerrung. Das Rastermuster ist 3x3 mm groß. Die Linien sind direkt in ein ultraflaches Siliciumsubstrat geätzt. Die Linien sind 300 nm tief mit einer Breite von 200 nm bei 1 µm Linien, 300 nm bei 10 µm Linien und 400 nm bei 100 µm Linien. Alternativ können kleine Proben für sofortige Kalibrierung oder Kalibriermaßstab im Bild direkt auf das Rastermuster aufgebracht werden. Der Standard ist NIST rückverfolgbar; Beispiel für das Wafer-Level-Zertifikat der Rückverfolgbarkeit eines Em-Tec M-1 Raster-Kalibrierstandards. Gedacht für die Anwendung im REM, FE-REM, FIB, Auger, SIMS und Auflichtmikroskop.
Artikel # Einheit Preis* Bestellung / Anfrage
31-T34000-U EM-Tec M-1 Kalibrierstandard, mit 1 µm Raster, nicht montiert
Anz:

Stück €95,00
31-T34000-1 EM-Tec M-1 Kalibrierstandard, mit 1 µm Raster, auf Ø 12,7 mm Standard Stub
Anz:

Stück €105,00
31-T34000-2 EM-Tec M-1 Kalibrierstandard, mit 1 µm Raster, auf Ø 12,7 mm Zeiss Stub
Anz:

Stück €105,00
31-T34000-6 EM-Tec M-1 Kalibrierstandard, mit 1 µm Raster, auf Ø 12,2 mm JEOL Stub
Anz:

Stück €122,50
31-T34000-8 EM-Tec M-1 Kalibrierstandard, mit 1 µm Raster, auf Ø 15 mm Hitachi Stub
Anz:

Stück €105,00


EM-Tec M-10 Kalibrierstandard, mit 10 µm Raster
EM-Tec M-10 Kalibrierstandard, mit 10 µm Raster
Der EM-Tec M-10 mit einer 10 µm Teilung ist hilfreich bei der Kalibrierung im Vergrößerungsbereich von 100x bis 1000x und zur Beurteilung der Bildverzerrung. Das Rastermuster ist 3x3 mm groß. Die Linien sind direkt in ein ultraflaches Siliciumsubstrat geätzt. Die Linien sind 300 nm tief mit einer Breite von 300 nm bei 10 µm Linien und 400 nm bei 100 µm Linien. Alternativ können kleine Proben für sofortige Kalibrierung oder Kalibriermaßstab im Bild direkt auf das Rastermuster aufgebracht werden. Der Standard ist NIST rückverfolgbar; Beispiel für das Wafer-Level-Zertifikat der Rückverfolgbarkeit eines Em-Tec M-10 Raster-Kalibrierstandards. Gedacht für die Anwendung im REM, FIB, Auger, SIMS und Auflichtmikroskop.
Artikel # Einheit Preis* Bestellung / Anfrage
31-T35000-U EM-Tec M-10 Kalibrierstandard, mit 10 µm Raster, nicht montiert
Anz:

Stück €95,00
31-T35000-1 EM-Tec M-10 Kalibrierstandard, mit 10 µm Raster, auf Ø 12,7 mm Standard Stub
Anz:

Stück €105,00
31-T35000-2 EM-Tec M-10 Kalibrierstandard, mit 10 µm Raster, auf Ø 12,7 mm Zeiss Stub
Anz:

Stück €105,00
31-T35000-6 EM-Tec M-10 Kalibrierstandard, mit 10 µm Raster, auf Ø 12,2 mm JEOL Stub
Anz:

Stück €122,50
31-T35000-8 EM-Tec M-10 Kalibrierstandard, mit 10 µm Raster, auf Ø 15 mm Hitachi Stub
Anz:

Stück €105,00




REM Zubehör

TEM Zubehör

Kalibrierung

Probenvorbereitung

AFM / SPM

  Produktübersicht mit Bilder
  REM Probenteller
  Kohlenstoffklebepads
  Adapter für Probenteller
  Adapter für Probentische
  REM Probenhalter
  REM Präparationshalter
  EM Kathoden
  Silizium-Such-Substrate
  Gatan 3View Probenteller
  FEI Volumescope Probenteller
  Boxen für Probenteller
  Phenom Zubehör
  JEOL NeoScope Zub.
  Hitachi TM Zubehör
  Probenhalterkits
  FlowView Flüssigproben-Halter

Instrumente

  Schallschutzboxen
  Cressington REM Beschichtung
  TEM Sample Prep
  Membranvakuumpumpe
  Rotationsvakuumpumpe
  Präzisions-Diamantsäge
  TEM Netzchen
  Trägerfilme
  Siliziumnitrid Trägerfilme
  K-kit Nasszelle
  Graphen Filme
  TEM Grid Boxen
  Kryo Grid Boxes
  TEM Probenkontrastierung
  TEM 3mm Einbettungsrörchen
  Kathoden
  Kunstwimper-Manipulartorset

Kryo Zubehör

  Kryo Grid Box
  Weiteres Kryo Zubehör

FIB Zubehör

  FIB Lift-out Grids
  FIB flache Probenteller
  FIB Grid Probenhalter
  FIB vorgekippte Probenhalter
  FIB vorgekippte Probenteller
  FIB Grid Aufbewahrung
  REM / FIB Vergrößerung
  REM Auflösungstandards
  EDS / WDS Standars
  TEM Kalibrierung
  AFM / SPM Kalibrierung
  LM Kalibrierung

Vakuum Zubehör

  Vakuummessung
  KF/NW Vakuumbauteile
  KF/NW Vakuumschläuche
  ISO Vakuumflansch Teile
  Vakuumöle und Fette
  Vakuum-Versiegelung
  Membranvakuumpumpe
  Rotationsvakuumpumpe
  Vakuumprobenaufbewahrung
  Vakuumpinzetten

Probebeschichtung

  Sputter Targets
  Kohlenstoffstäbe & Fäden
  Quarz Kristalle
  REM Beschichtungsflüssigkeit

Bedampfung Zubehör

  Therm. Verdampfungsquellen
  Bedampfungsmaterialien
  Auflagen & Substrate
  REM Präparationshalter
  Pinzetten
  Nadeln & Sonden
  Holzspatel & Tupfer
  Polymer Transferpipetten
  Schneidwerkzeuge / Scheren
  Leitfähige Kleber
  Leitfähige Kleberbänder/Tabs
  Nicht-leitfähige Kleber
  Probenaufbewahrung
  Werkzeuge
  Sortier-Gewebe
  Probenpräparation
  Reinigung / Handschuhe
  Leitfähige Metallpulver
  Metallographie
  AFM/SPM Metallscheiben
  AFM/SPM Scheiben Aufnahme
  AFM/SPM Halter
  AFM/SPM Aufbewahrung
  Cantilever Pinzetten
  AFM/SPM Pinzetten
  Nano-Tec Mica Scheiben
  HOPG Substrate

Lichtmikroskop Zubehör

  Korrelative Deckgläschen
  Glas-Objektträger
  Deckgläschen
  Quarz Objektträger
  Quarz-Deckgläschen
  Schwarze Metallobjektträger
  Objektträger Aufbewahrung
  Kalibrierung
  Polymerpipetten
  Reinigungspapier für Linsen
  Petrischalen
  Digitalmikroskop
  PTFE Becher